UV(紫外線)オゾン洗浄装置とは、特定波長の紫外線を照射しオゾン(O3)を生成、その生成したオゾンを利用し有機化合物を酸化・分解させることで、 ワーク表面の有機物汚染の除去、表面改質を行うUVオゾン洗浄装置です。
紫外線(UV)オゾン洗浄装置 UV-208、UV-312は、UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用しています。
高密度グリッド形状のランプを採用していることで、ワーク全エリアを均一に照射することができます。
照射エリア | 206mm x 206mm |
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電源 | AC 100V 5A 50 or 60Hz(他電圧可) |
装置寸法 | 385mm(W) x 480mm(D) x 270mm(H) |
重量 | 28kg |
特長 | |
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1 | 高密度UVグリッドランプを使用。 |
2 | ワーク面に対して照射が均一。 |
3 | 省スペース、コンパクト設計。 |
4 | シンプルなユーティリティー。 |
5 | 両面洗浄、片面洗浄の対応が可能。 |
6 | 容易な操作、セーフティー機能内蔵。 |
UV(紫外線)照射によるオゾン洗浄・表面改質により、表面の汚れ(疎水性のもの)が 除去・洗浄され濡れ性が(親水性へ)変化します(水滴が広がります)。
濡れ性の変化は、固体の表面で液体が接触している接触角θの変化(小さくなる)で 確認できます。濡れ性の変化は、密着性の向上にもつながります。
■水滴の広がりによる濡れ性、接触角の変化
■ぬれ性変化
■接触角の変化
処理条件 | |
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照射時間 | 5分/照射距離:10mm |
照射装置 | UV-208/照射サンプル:Siウェーハー |
UV(紫外線)オゾン洗浄装置は、下記の各種用途に手軽に利用することができます。
用途 | |
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1 | 半導体ウェハー、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄。 |
2 | 樹脂部品の表面改質。 |
3 | 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上。 |
4 | ワーク表面のヌレ性改善。 |
オゾン生成 | 大気中の酸素(O2)は波長184.9nmの紫外線を吸収して、オゾン(O3)を生成 |
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オゾン分解 | 生成されたオゾン(O3)はさらに波長253.7nmの紫外線を吸収して、O2と活性酸素(O*)を発生 |
有機物分解(洗浄、表面改質) | 非常に不安定な活性酸素(O*)が有機化合物と結びついてH2O、CO2、NOxなどの気体に酸化分解(有機化合物と結びつくことで、洗浄・表面改質されます) |