全自動マスク洗浄装置『TWC-200A』は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する、最大7インチマスク対応のカセット to カセットの全自動マスク洗浄装置です。
乾燥は従来のエアーナイフ乾燥ではなく、 ホット純水乾燥を採用し、水飛びによる調整の手間を無くした調整不要の設計になっています。
対応するマスクサイズは、最大7インチまで。20枚セット可能な専用カセットを装置にセットした後は、「スタート」ボタンを押すだけ！
薬液補充は、ご購入いただく”薬液（薬液タンク）の状態での入れ替え”となり、キャップの付け替え作業になります。薬液は4種類が用意され、ニーズに合ったものを選択できます。
| 電源 | 200V 3相 |
|---|---|
| 寸法 | 1,760mm（W） × 900mm（D） × 2,050mm（H） |
| 重量 | 約550Kg |
・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※
・マスクに付着したレジストを簡単に除去
・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去
・マスクは消耗品から永久使用へ
・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発
・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放
・高価なリムーバーや現像液なども不要
※例は大手メーカーの使用ケース：1か月で約3,000枚のマスクを使用。マスク代を3,000～5,000円と想定し計算
■デザインルールL/S（Line and Space ）1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適
FPD（フラットパネルディスプレイ）、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。
洗浄から乾燥に至るまでの洗浄フロー概略
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