フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件！

半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留まりを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められます。

本装置は、薬液が併用できるマスク洗浄装置となります。

マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。

汚染の度合いに適した薬液を使用する事で時間、労力・経費の節約をはかり、洗浄効率の向上が実現できます。