モデル『TCC-803 カセット洗浄装置』は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした洗浄装置。少量多品種生産用途に適したコンパクトな装置です。
多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、ますます高度化する環境の中で求められる 歩留り向上、これらの問題をクリアするソリューションの一つにコンタミネｰションコントロール（製品への不純物付着がないよう管理すること）が最重要課題として位置付けられています。
テクノビジョンが提供するカセット洗浄装置は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されているキャリア・クリーナーです。
複雑な形状のワーク（ウェハ搬送容器）を考慮し、各種回転やスプレー洗浄等数多くの洗浄ノウハウを凝縮し、製品化しています。
最大8インチSMIF PODまで対応。
■主な特長
| 特長 | 内容 |
|---|---|
| 精密洗浄 | ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々まで精密洗浄 |
| 強力洗浄 | ウェハー収納ミゾ部全面に対し直角スプレーを実施 |
| ホット純水 | クリーンヒーター内蔵で、ホット純水による洗浄 |
| 乾燥 | 水切り、乾燥チャンバーの2段階乾燥 |
| 小フットプリント | 縦型設計で、省スペース化を実現 |
洗浄では、「洗浄」→「リンス」→「乾燥1」→「乾燥2」・「静電気除去」のプロセスを自動運転します。
| 洗浄プロセス | 内容 |
|---|---|
| 1：WASH（洗浄） | 複雑な形状のカセット、ボックス等を精密洗浄 |
| 2：RINSE（リンス） | 洗浄時に界面活性剤を使った場合のリンス工程 |
| 3：DRY-1（乾燥-1） | エアーナイフによる水切り工程 |
| 4：DRY-2（乾燥-2） | Low Flow ホットエアーナイフによるファイナルドライ |
| 5：ESD（静電気除去） | 静電気を除去し、塵埃の付着を防止 |
製品に関するお問い合わせや、カタログご請求などお気軽にご連絡下さい。
