洗浄装置とダイシング周辺装置のことならテクノビジョン

フォトマスク洗浄装置 TW-300

  • フォトマスク洗浄装置 TW-300

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件!
半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。


テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000をご提供しています。

仕様


マスクサイズ 360mm × 460mmまで
装置寸法 1,070mm(W) × 700mm(D) × 1,815mm(H)
作業高さ 1,200mm
重量 280Kg

特長


■主な特長

特長
1 ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
2 スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
3 縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
4 少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。
5 各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。
また、ワーク接触部分は、樹脂にて対応。
専用ワークホルダー
専用ワークホルダー
フリーサイズ用ワークホルダー
フリーサイズ用ワークホルダー
個別対応専用ワークホルダー
個別対応専用ワークホルダー

用途


フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用その他、板状基板等洗浄可

■各オプション

・界面活性剤供給ユニット  ・HEPA/ULPAユニット  ・イオナイザー  ・ホットエアーナイフ  ・純水加熱ユニット

製品に関するお問い合わせや、カタログご請求などお気軽にご連絡下さい。

株式会社テクノビジョン
〒350-0165 
埼玉県比企郡川島町中山2078
TEL:049-299-1385 
FAX:049-299-1386
電話番号:049-299-1385
24時間365日受付

製品情報

洗浄装置

カセット洗浄装置

  TCC-803

フォトマスク洗浄装置

  TWE-200

  TW-300

  TW-700

  TW-1000

  TWC-302

全自動マスク洗浄装置

  TWC-200A

  TWC-304A

万能簡易洗浄装置 Easy Clean

  薬液洗浄ユニット

  純水スクラブ洗浄ユニット

  温水引上げ乾燥ユニット

薬液

スーパークリーンヒーター

超純水用加熱ヒーター

  QHシリーズ

クリーン加熱ヒーター

  SHシリーズ

簡易タイプ温度コントローラー

  TC-2030

紫外線オゾン洗浄装置

マウンター

マニュアルマウンター

  FM-224シリーズ

  PFM-9008

セミオートマウンター

  FM-3343

  FM-903S

  FM-664シリーズ

エキスパンダー

グリップリング

UVフィルム硬化装置

LED仕様

  UVC-200/300

  UVC-200A/300A

  UVC-708

高圧水銀ランプ仕様

  UVC-408

  UVC-512

動画集
無償貸出のご案内
用語集
         
採用情報