フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件！
半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。
テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000をご提供しています。
| マスクサイズ | 1,300mm × 1,700mmまで |
|---|---|
| 装置寸法 | 17,200mm（W） × 1,200mm（D） × 2,700mm（H） |
※マスクサイズは適宜対応致しますのでご相談下さい。
※マスク受渡部も同様にカスタムスペックにて対応しますのでご相談下さい。
■主な特長
| 特長 | |
|---|---|
| 1 | ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 |
| 2 | スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 |
| 3 | 縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 |
| 4 | 少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。 |
| 5 | 樹脂搬送ローラーにより搬送。また、上部搬送ローラー位置可変により他サイズマスク兼用可能。 |
フォトマスク：液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、その他、板状基板等洗浄可
製品に関するお問い合わせや、カタログご請求などお気軽にご連絡下さい。
