Easy Cleanは三つの基本ユニットで構成されます。お客様の洗浄用途に合わせて各ユニットの組み合わせ選択が自由に出来ます。単独ユニットでのご提供も承ります。

ワーク表面の洗浄化を達成するためにどのような洗浄の組み合わせが必要か容易に特定できます。汚染の状況（金属汚染、油脂汚染、有機汚染、塵埃汚染）により洗浄手段も異なります。
半導体を含む電子部品製造に置いてコンタミネーションコントロールは非常に重要な要素です。
Easy Cleanは製品の品質向上、歩留まり向上に貢献いたします。
小ロット多品種生産、パイロット生産、R&Dなどでお役立て頂けます。

共通仕様：ワークサイズ〜Max.7インチ／178mm　□　or　φ（形状任意、厚さ任意）
※ラージサイズ基板対応装置のご相談承ります。

■モデル　EC-chemical

本ユニットは任意のケミカルが使用できます。ヒーター付きケミカル槽とリンス槽の二槽で構成

■モデル　EC-scrub

特殊ブラシによるスクラブ洗浄。
界面活性剤使用可能な純水スクラブ洗浄槽、第一リンス槽、オーバーフロー機能付き第二リンス槽の三槽で構成。

■モデル　EC-dry

温水引き上げ乾燥による理想的な乾燥装置。
オーバーフロー機能付き乾燥槽、ワークの二次汚染が有りません。