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全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A

  • 全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A

– 国内专用-


全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子完全去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。


干燥采用热纯水干燥,而不是传统的气刀干燥,并采用免调节设计,省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥


对应的面罩尺寸,最多7英寸。专用盒最多可装20张。

规格


电源 200V3相
尺寸 1,760mm(W) × 900mm(D) × 2,050mm(H)
重量 约550公斤

特点


・轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂

・轻松移除蒙版上的粒子

・清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液

・从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来

・不需要昂贵的去除剂和显影液

Before→After

用途


■设计规则L/S(线和空间)最适合清洗1微米或更高的光掩模

平板显示器,MEMS器件,精细图案PCB/FPC/TAB,化合物半导体,薄膜电子元件等。

清洁/漂洗


清洁/漂洗

Particle check Data/Resist Residue

产品信息

清洗装置

超级清洗加热器 - 国内专用-

超纯水用QH系列
- 国内专用-

  QH系列

洁净干气用SH系列
- 国内专用-

  SH系列

简易型温度控制器
- 国内专用-

  TC-2030

紫外线臭氧(UV臭氧)清洗装置

晶圆贴片机/贴膜机

手动型贴片机

  FM-224系列

半自动型贴片机

  FM-3343

  FM-903S

  FM-664系列

晶片扩张装置

扩晶环

UV照射装置

LED灯源规格

  UVC-200/300

  UVC-200A/300A
- 国内专用-

  UVC-708

高压汞灯规格

  UVC-408

  UVC-512