洗浄装置とダイシング周辺装置のことならテクノビジョン

紫外線オゾン洗浄装置 UV-208

  • 紫外線オゾン洗浄装置 UV-208

UV(紫外線)オゾン洗浄装置とは、特定波長の紫外線を照射しオゾン(O3)を生成、その生成したオゾンを利用し有機化合物を酸化・分解させることで、 ワーク表面の有機物汚染の除去、表面改質を行うUVオゾン洗浄装置です。


紫外線(UV)オゾン洗浄装置 UV-208、UV-312は、UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用しています。


高密度グリッド形状のランプを採用していることで、ワーク全エリアを均一に照射することができます。

仕様


照射エリア 206mm x 206mm
電源 AC 100V 5A 50 or 60Hz(他電圧可)
装置寸法 385mm(W) x 480mm(D) x 270mm(H)
重量 28kg

特長


特長
1 高密度UVグリッドランプを使用。
2 ワーク面に対して照射が均一
3 省スペース、コンパクト設計。
4 シンプルなユーティリティー。
5 両面洗浄、片面洗浄の対応が可能。
6 容易な操作、セーフティー機能内蔵。
高密度UVグリッドランプ
[写真:高密度UVグリッドランプ]

効果


UV(紫外線)照射によるオゾン洗浄・表面改質により、表面の汚れ(疎水性のもの)が 除去・洗浄され濡れ性が(親水性へ)変化します(水滴が広がります)。


濡れ性の変化は、固体の表面で液体が接触している接触角θの変化(小さくなる)で 確認できます。濡れ性の変化は、密着性の向上にもつながります。

■水滴の広がりによる濡れ性、接触角の変化

照射前→照射後

■ぬれ性変化

ぬれ性変化

■接触角の変化

接触角の変化
処理条件
照射時間 5分/照射距離:10mm
照射装置 UV-208/照射サンプル:Siウェーハー

用途


UV(紫外線)オゾン洗浄装置は、下記の各種用途に手軽に利用することができます。

用途
1 半導体ウェハー、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄。
2 樹脂部品の表面改質。
3 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上。
4 ワーク表面のヌレ性改善。

UVオゾン洗浄原理


オゾン生成 大気中の酸素(O2)は波長184.9nmの紫外線を吸収して、オゾン(O3)を生成
オゾン分解 生成されたオゾン(O3)はさらに波長253.7nmの紫外線を吸収して、O2と活性酸素(O*)を発生
有機物分解(洗浄、表面改質) 非常に不安定な活性酸素(O*)が有機化合物と結びついてH2O、CO2、NOxなどの気体に酸化分解(有機化合物と結びつくことで、洗浄・表面改質されます)
UVオゾン洗浄原理
UVオゾン洗浄
UVオゾン洗浄 イメージ

製品に関するお問い合わせや、カタログご請求などお気軽にご連絡下さい。

株式会社テクノビジョン
〒350-0165 
埼玉県比企郡川島町中山2078
TEL:049-299-1385 
FAX:049-299-1386
電話番号:049-299-1385
24時間365日受付

製品情報

洗浄装置

カセット洗浄装置

  TCC-803

フォトマスク洗浄装置

  TWE-200

  TW-300

  TW-700

  TW-1000

  TWC-302

全自動マスク洗浄装置

  TWC-200A

  TWC-304A

簡易洗浄ユニット

  ケミカルユニット

  スクラブユニット

  ドライユニット

薬液

スーパークリーンヒーター

超純水用加熱ヒーター

  QHシリーズ

クリーン加熱ヒーター

  SHシリーズ

簡易タイプ温度コントローラー

  TC-2030

紫外線オゾン洗浄装置

マウンター

マニュアルマウンター

  FM-224シリーズ

セミオートマウンター

  FM-3343

  FM-903S

  FM-664シリーズ

エキスパンダー

グリップリング

UVフィルム硬化装置

LED仕様

  UVC-200/300

  UVC-200A/300A

高圧水銀ランプ仕様

  UVC-408

  UVC-512

動画集
無償貸出のご案内
用語集
テクノビジョンについて
『株式会社テクノビジョン』は、半導体等のハイテクノロジー産業で、製造プロセスの歩留り向上、品質向上、および自動化/省力化に貢献している日本の半導体製造装置メーカーです。