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フォトマスク洗浄装置 TWC-302

  • フォトマスク洗浄装置 TWC-302

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件!

半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留まりを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められます。

本装置は、薬液が併用できるマスク洗浄装置となります。

マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。

汚染の度合いに適した薬液を使用する事で時間、労力・経費の節約をはかり、洗浄効率の向上が実現できます。

仕様


マスクサイズ 14インチ×14インチまで 
装置寸法 1,480mm(W)×1,370mm(D)×2,120mm(H)
重量 約600Kg

特長


■主な特長

特長
1 ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
2 スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
3 縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
4 少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。
5 乾燥は、ホット純水乾燥。

用途


フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可

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製品情報

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  TCC-803

フォトマスク洗浄装置

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  TW-300

  TW-700

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  TWC-302

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  TWC-200A

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  UVC-200/300

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  UVC-408

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