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フォトマスク洗浄装置 TW-700

  • フォトマスク洗浄装置 TW-700

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件!
半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。


テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000をご提供しています。

仕様


マスクサイズ 620mm×720mmまで
装置寸法 1,810mm(W)×880mm(D)×1,590mm(H)
作業高さ 1,240mm
重量 580Kg

特長


■主な特長

特長
1 ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
2 スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
3 縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
4 少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。
5 各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。
また、ワーク接触部分は、樹脂にて対応。
専用ワークホルダー
専用ワークホルダー
フリーサイズ用ワークホルダー
フリーサイズ用ワークホルダー
個別対応専用ワークホルダー
個別対応専用ワークホルダー

用途


フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用その他、板状基板等洗浄可

■各オプション

・界面活性剤供給ユニット  ・ホットエアーナイフ  ・純水加熱ユニット

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株式会社テクノビジョン
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製品情報

洗浄装置

カセット洗浄装置

  TCC-803

フォトマスク洗浄装置

  TWE-200

  TW-300

  TW-700

  TW-1000

  TWC-302

全自動マスク洗浄装置

  TWC-200A

  TWC-304A

簡易洗浄ユニット

  ケミカルユニット

  スクラブユニット

  ドライユニット

薬液

スーパークリーンヒーター

超純水用加熱ヒーター

  QHシリーズ

クリーン加熱ヒーター

  SHシリーズ

簡易タイプ温度コントローラー

  TC-2030

紫外線オゾン洗浄装置

マウンター

マニュアルマウンター

  FM-224シリーズ

セミオートマウンター

  FM-3343

  FM-903S

  FM-664シリーズ

エキスパンダー

グリップリング

UVフィルム硬化装置

LED仕様

  UVC-200/300

  UVC-200A/300A

高圧水銀ランプ仕様

  UVC-408

  UVC-512

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テクノビジョンについて
『株式会社テクノビジョン』は、半導体等のハイテクノロジー産業で、製造プロセスの歩留り向上、品質向上、および自動化/省力化に貢献している日本の半導体製造装置メーカーです。