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カセット洗浄装置 TCC-803

  • カセット洗浄装置 TCC-803

モデル『TCC-803 カセット洗浄装置』は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした洗浄装置。少量多品種生産用途に適したコンパクトな装置です。


多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、ますます高度化する環境の中で求められる 歩留り向上、これらの問題をクリアするソリューションの一つにコンタミネーションコントロール(製品への不純物付着がないよう管理すること)が最重要課題として位置付けられています。


テクノビジョンが提供するカセット洗浄装置は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されているキャリア・クリーナーです。

特長


複雑な形状のワーク(ウェハ搬送容器)を考慮し、各種回転やスプレー洗浄等数多くの洗浄ノウハウを凝縮し、製品化しています。
最大8インチSMIF PODまで対応。

■主な特長

特長 内容
精密洗浄 ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々まで精密洗浄
強力洗浄 ウェハー収納ミゾ部全面に対し直角スプレーを実施
ホット純水 クリーンヒーター内蔵で、ホット純水による洗浄
乾燥

水切り、乾燥チャンバーの2段階乾燥

小フットプリント 縦型設計で、省スペース化を実現

洗浄プロセス


洗浄では、「洗浄」→「リンス」→「乾燥1」→「乾燥2」・「静電気除去」のプロセスを自動運転します。


洗浄→リンス→乾燥1→乾燥2→静電気除去

洗浄プロセス 内容
1:WASH(洗浄) 複雑な形状のカセット、ボックス等を精密洗浄
2:RINSE(リンス) 洗浄時に界面活性剤を使った場合のリンス工程
3:DRY-1(乾燥-1) エアーナイフによる水切り工程
4:DRY-2(乾燥-2) Low Flow ホットエアーナイフによるファイナルドライ
5:ESD(静電気除去) 静電気を除去し、塵埃の付着を防止

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製品情報

洗浄装置

カセット洗浄装置

  TCC-803

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  TWE-200

  TW-300

  TW-700

  TW-1000

  TWC-302

全自動マスク洗浄装置

  TWC-200A

  TWC-304A

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  ケミカルユニット

  スクラブユニット

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薬液

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紫外線オゾン洗浄装置

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セミオートマウンター

  FM-3343

  FM-903S

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  UVC-408

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『株式会社テクノビジョン』は、半導体等のハイテクノロジー産業で、製造プロセスの歩留り向上、品質向上、および自動化/省力化に貢献している日本の半導体製造装置メーカーです。