洗浄装置とダイシング周辺装置のことならテクノビジョン

万能洗浄装置:Easy Clean

  • 簡易洗浄ユニット ケミカルユニット

薬液洗浄ユニット

  • 簡易洗浄ユニット スクラブユニット

純水スクラブ洗浄ユニット

  • 簡易洗浄ユニット ドライユニット

温水引上げ乾燥ユニット

Easy Cleanは三つの基本ユニットで構成されます。お客様の洗浄用途に合わせて各ユニットの組み合わせ選択が自由に出来ます。単独ユニットでのご提供も承ります。


モデル EC-chemical:薬液洗浄ユニット
モデル EC-scrub:純水スクラブ洗浄ユニット
モデル EC-dry:温水引上げ乾燥ユニット

洗浄アイテム:ガラス、セラミック、シリコンウエハー、Ⅲ-Ⅴ属基板、ソーラーパネル、プラスチック、エンプラ、金属、レンズ、光学部品、その他

特長


ワーク表面の洗浄化を達成するためにどのような洗浄の組み合わせが必要か容易に特定できます。汚染の状況(金属汚染、油脂汚染、有機汚染、塵埃汚染)により洗浄手段も異なります。
半導体を含む電子部品製造に置いてコンタミネーションコントロールは非常に重要な要素です。
Easy Cleanは製品の品質向上、歩留まり向上に貢献いたします。
小ロット多品種生産、パイロット生産、R&Dなどでお役立て頂けます。

共通仕様:ワークサイズ〜Max.7インチ/178mm □ or φ(形状任意、厚さ任意)
※ラージサイズ基板対応装置のご相談承ります。

個別仕様


■モデル EC-chemical

本ユニットは任意のケミカルが使用できます。ヒーター付きケミカル槽とリンス槽の二槽で構成


ユニットサイズ 420mm(W) × 430mm(D) × 275mm(H)
電源 AC100V 500W(他電源可)

■モデル EC-scrub

特殊ブラシによるスクラブ洗浄。
界面活性剤使用可能な純水スクラブ洗浄槽、第一リンス槽、オーバーフロー機能付き第二リンス槽の三槽で構成。


ユニットサイズ 490mm(W) × 390mm(D) × 250mm(H)
電源 不要
純水 23 L/min. 接続:Rc3/8
排水 接続:Rc1/2

■モデル EC-dry

温水引き上げ乾燥による理想的な乾燥装置。
オーバーフロー機能付き乾燥槽、ワークの二次汚染が有りません。


ユニットサイズ 400mm(W) × 670mm(D) × 1180mm(H)
電源 AC100V 500W
純水 23 L/min. 接続:Rc3/8
排水 接続:Rc1/2

製品に関するお問い合わせや、カタログご請求などお気軽にご連絡下さい。

株式会社テクノビジョン
〒350-0165 
埼玉県比企郡川島町中山2078
TEL:049-299-1385 
FAX:049-299-1386
電話番号:049-299-1385
24時間365日受付

製品情報

洗浄装置

カセット洗浄装置

  TCC-803

フォトマスク洗浄装置

  TWE-200

  TW-300

  TW-700

  TW-1000

  TWC-302

全自動マスク洗浄装置

  TWC-200A

  TWC-304A

万能簡易洗浄装置 Easy Clean

  薬液洗浄ユニット

  純水スクラブ洗浄ユニット

  温水引上げ乾燥ユニット

薬液

スーパークリーンヒーター

超純水用加熱ヒーター

  QHシリーズ

クリーン加熱ヒーター

  SHシリーズ

簡易タイプ温度コントローラー

  TC-2030

紫外線オゾン洗浄装置

マウンター

マニュアルマウンター

  FM-224シリーズ

セミオートマウンター

  FM-3343

  FM-903S

  FM-664シリーズ

エキスパンダー

グリップリング

UVフィルム硬化装置

LED仕様

  UVC-200/300

  UVC-200A/300A

  UVC-708

高圧水銀ランプ仕様

  UVC-408

  UVC-512

動画集
無償貸出のご案内
用語集
テクノビジョンについて
『株式会社テクノビジョン』は、半導体等のハイテクノロジー産業で、製造プロセスの歩留り向上、品質向上、および自動化/省力化に貢献している日本の半導体製造装置メーカーです。