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新着情報

2012年3月

【12インチ対応ウェハー拡張装置(エキスパンダー)の開発を開始】

株式会社 テクノビジョンでは、半導体業界で拡大しております12インチ(300mm)
ウェハーへのニーズにお応えし、12インチ(300mm)に対応したウェハー拡張装置
(エキスパンダー)
の開発を開始いたしました。


ウェハー拡張装置は、半導体製造の後工程であるダイシングにより分割された
ウェハーを X-Y 方向に均一に拡張し、チップ間隔を広げることで、ダイシング後の
チップハンドリングを容易にするための装置です。


これまでにも12インチ(300mm)対応について、多数のお客様よりお問合せ、ご要望を
いただいておりましたが、この度、準備が整い開発に着手することとなりました。


また、「12インチ(300mm)対応ウェハ拡張装置」開発に合わせ、弊社が推奨しております
ダブルリング構造のグリップリング(拡張されたウェハの状態を保持するためのリング)も
12インチ(300mm)対応品としてご用意致します。


現在提供しております8インチまで対応したウェハー拡張装置の開発技術、ノウハウ、
および数々のお客様からお寄せいただきましたフィードバックを活かし、新製品の開発を
行って参ります。


なお、「12インチ対応ウェハー拡張装置」の詳細についてのお問い合わせは
随時受け付けておりますので、お気軽に下記営業部までご連絡ください。


・お問合せ先:
 株式会社テクノビジョン 営業部
 TEL:049-299-1385
- e-mail: technovision.info@techvision.co.jp



12inch

2012年3月

【「クリーンテクノロジー」誌2012年3月号にマスク洗浄装置に関する記事掲載】

日本工業出版 発行、「クリーンテクノロジー」誌(2012年3月号) P.57-P.61に、


レジスト除去用プロセスを装備した半導体や液晶露光マスク洗浄装置(その3)
 ~ アルカリ洗浄薬によるマスク劣化について ~ 


と題し、(株)パーカーコーポレーション佐原幸治氏と弊社宮川による記事の掲載を行っています。


「アルカリ性マスク洗浄薬液によりマスクガラスやクロムパターンの溶解、
エッチングされる程度について実験データに基づき考察している内容」です。


詳細につきましては、大変恐れ入りますが、誌面をご確認いただきますようお願いいたします。

参考:「クリーンテクノロジー」誌 公式ページ

2012年2月

【『ホット純水乾燥装置』のご提案および製作を実施】

半導体製造の洗浄工程におけるワーク(ウェハー、ガラス、基板等)の乾燥でお困りの方々に
株式会社テクノビジョンが『ホット純水乾燥装置』をご提案いたします。

半導体の製造工程においては、様々な工程で汚染物質が発生します。
その汚染物質を除去する洗浄工程は、半導体製造工程において非常に重要な技術の一つであり、
半導体の微細化や環境問題に関連し、高い洗浄技術が求められております。

その洗浄工程において従来から広く用いられてきましたウェット洗浄では、ワークの乾燥は
必要不可欠な工程となります。
しかしその乾燥方法は様々で、以下のような問題が見受けられます。

・防爆の危険
・ワークの破損
・膨大なエアー消費
・ワークサイズ変更への対応不可...等

半導体製造装置のメーカー、株式会社テクノビジョンは、このようなウェット洗浄において
お困りの方に、乾燥工程見直しの検討をご提案させていただきます。

ホット純水乾燥装置』による乾燥は、温度管理された温水の槽より
引き上げ表面張力を利用した乾燥方法です。
その随所に、これまでの半導体洗浄装置開発のノウハウ、多数の販売実績による
顧客からのフィードバックを生かしました。

半導体製造における洗浄工程についてお困りでしたら、柔軟に対応させていただきますので、
ぜひお気軽にお問い合わせください。
お問合せ等は、随時受け付けさせていただきます。

【お問い合わせ先】
・株式会社 テクノビジョン 営業部
・TEL:049-299-1385
・e-mail:technovision.info@techvision.co.jp
・住所:〒350-0165 埼玉県比企郡川島町中山2078
・URL: http://www.techvision.co.jp/

2012年1月

【展示ブースご来場ありがとうございました(第13回「半導体パッケージング技術展」)】

先に開催されました展示会“半導体パッケージング技術展”ではお忙しい中
弊社ブースにご来場いただき誠にありがとうございました。
おかげをもちまして大変盛況な展示会となりスタッフ一同感謝の念に堪えません。

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<当日のテクノビジョン・ブースの様子>

特に、多くの会社がパネル展示に移行している中、弊社は実機展示を中心として
多くのお客様にご覧いただく場を設けました。

中でも、LED光源を搭載したUV硬化装置には多くのお客様の興味を引いたように
思います。

環境省発表の全世界130カ国参加のもと “国連の水銀使用規制” 等は装置選定の
重要な一条件になっていると思われます。

更に、LED光源が従来光源(高圧水銀灯、メタルハライド光源)の照度を上回るように
なったのも、初期投資は多少高めでもトータルな検討対象になってきたものと
思われます。

評価用デモ機を揃えて実機でご確認いただけるような態勢でいますので
いつでも弊社営業部までお申し付けくださいますようお願い申し上げます。

2012年1月

【「第13回半導体パッケージング技術展」のご案内】

今回の展示会はホットなニュースが満載です。


10機種の実機を展示します。その中で、“四機種の新製品”がございます。
更にその中で、“二機種の目玉製品”を発表。
そのうえ更に、“ホットな注目製品”情報がございます。


詳細はこちら → 展示会特設ページ


日時 : 2012年1月18日(水)~20日(金)
会場 : 東京ビックサイト(西展示場) ブース番号~西5-2
お問合せ : 株式会社テクノビジョン 営業部 TEL:049-299-1385

2011年12月

【「第13回半導体パッケージング技術展」展示会の見どころ・ハイライト】

2012年1月に開催される半導体パッケージング技術展の注目製品ハイライトを
2件お知らせします。
実機を展示して皆様のお越しをお待ちいたしております。

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UV硬化装置
ダイシング工程、BC工程で使用されるUV硬化装置の光源が水銀ランプからLED光源
になりました。
C to C全自動装置とマニュアル装置を展示いたします。

国連の水銀包括規制(水銀の輸出や含有製品の販売を原則規制する)条約が2013年制定を
目指しています。
テクノビジョンではそれに先駆けて高圧水銀灯の照度を超えるLED光源の開発に取組んできました。
独自のLED駆動電源と冷却方式の開発によりついに目標を達成し、着実に販売実績を伸ばして
います。出力照度以外に多くの成長を持った装置をご自身の目でご確認ください。


全自動マスク洗浄装置
LED市場の活性化とFPCをはじめ多くの電子部品のL/Sが数ミクロンから数十ミクロンまで微細化する
領域の入ってきました。必然的にパターン形式がリソグラフィー技術に移行しアライナーが使われます。
その為マスクの付着したレジストとパーティクルの除去が製品歩留りを向上させる要となりそうです。


(部長さん、課長さん):マスク洗浄?問題ないよ!
(現場の担当者):実は“現場はマスク洗浄で困っている”と言う多くの声を聞きます。

   
新製品TWCシリーズは:
①危険で有害な熱硫酸、硫酸過水や有機溶剤は一切使いません。
②薬液メーカーとタッグを組んで地球環境にマイルドな水溶性アルカリ薬液を開発。
③新薬液は今まで諦められていたレジストの昇華物まで除去します。
④ハード(装置)とソフト(洗浄ノウハウとレシピ)を提供。
⑤パターンの一部と認識される厄介なゴミはソフトスクラブ洗浄で完全除去。
⑥HOT DIW-DRY 機能搭載。乾燥ジミの発生がゼロ。
⑦洗浄デモをお申し付けください。プロセスとレシピを開示してご返却いたします。

2011年11月

CHINA SSL(第8回中国国際半導体照明展示会) に参加します

第8回中国国際半導体照明展示会が
2011年11月8-10日の3日間 中国/広州で開催されます。


8th China International Exhibition Forum on Solid State Lighting


SSLは中国で開催される世界最大の個体照明産業の展示会です。
製造装置、原料材料、技術、製品、アプリケーションの成果に
ハイライトされたイベントで平行してトップレベルのフォーラムが行われます。
総勢数万人を超える官僚、会社役員、業界のリーダーが広州に押しかけます。
世紀の発明と騒がれた青色ダイオードで名を馳せたMr.Shuzi Nakamura も
ボードメンバーの一人として活躍されています。


このたびテクノビジョンは開発を進めておりましたLED製造プロセス/露光工程で
使用される“全自動マスク洗浄装置”について特設展示ブースにおいて
技術開示のチャンスを得ることが出来ました。
レジストを除去する安全な薬液をパーカーコーポレーションと共同開発、及び
パーティクルを除去する独自の従来技術、この二つの技術の融合を新製品に
反映させた成果を世界中にアピールします。

2011年10月

【ノーマルテープ、プリカットテープ両用ウェーハーマウンタ】

既に試作開発を手掛けておりました300mm/12インチウェーハに対応する
ノーマルテープとプリカットテープ両方使える一台二役の機能を持った
セミオートタイプウェーハーマウンタを完成させました。
既に中国から数台の注文を受けましたが、今後更に同国からの引合いが
増えていく事に備えたものです。

ノーマルテープとはロール状のり付きテープやUVテープのことで、
ダイシング用途やDAF用途に使用されます。
ウェーハサイズやフレームサイズより少し大きめの幅を持ったテープを使用し、
貼りつけ後テープをカットする普及版で種類豊富、エコノミータイプの用途として
使用されています。

一方、プリカッテーテープは既にウェーハサイズ或いはフレームサイズに合わせて製作(プリカット)
されたテープを、ロール状台紙に貼り付けたもので、テープマウント後の不要なテープのカット工程
を省くことができます。

DRAMやフラッシュメモリー等を除く300mmプロセスがやっと本格化する兆候が見えてきた
日本の半導体メーカーではありますが、世界からは450mmの声が間近聞こえる中
なんとか元気を取り戻すチャンスを切望する限りです。

2011年9月

全自動フォトマスク洗浄装置の受注が活発になってきました

台湾、中国、日本でLEDの生産が活発になってまいりました。
それに伴いフォトマスク洗浄装置の受注が大手メーカーより相次いでいます。


テクノビジョンでは従来から培ってきたスクラブ洗浄術に加え、
新たに薬液洗浄技術の開発に取り組んでまいりました。
スクラブ洗浄は主にパーティクルの除去をメインとします。
薬液洗浄はマスクに付着したレジストを除去します。


LED生産においては素子パターンのデザインルールL/Sが、サブミクロン領域には
至っていないため、露光プロセスにはプロキシミティーまたはコンタクトアライナーが使用されます。
このため、マスク汚染に対してはレジスト除去とパーティクル除去機能をもった
洗浄装置が必要となります。


某大手LEDメーカーでは1月のマスク洗浄が5000枚以上にも達しています。
このような大量のマスクの洗浄に携わる作業人員も相当数となりますが、
洗浄作業はアセトンや硫酸過水等、人体に有害かつ危険な薬液がなどが
使われる為、作業者に対する保護対策も大変気を使う必要が生じます。
テクノビジョンの全自動マスク洗浄装置はこのような量産工場で対応できる
安全かつ環境にやさしい唯一のコンパクト、スモールフットプリント洗浄装置です。



フォトマスク洗浄は装置ビジネスにおいてはニッチな分野ではありますが
"マスク洗浄といえばテクノビジョン" を合言葉にこれからも業界一、世界一を
目指して参ります。


2011年8月

次世代産業の研究開発テーマが2年連続で承認

平成23年度次世代産業参入支援の対象に2年連続で
埼玉県より補助金対象事業計画として承認を受けました。

開発テーマは紫外線発光ダイオード高出力光源ユニットの開発。
一昨年取組んだ開発内容から、より一層高いレベルの技術確立を目指します。

高圧水銀灯光源の従来装置は消費電力が大きく、ランプ寿命が短い上に装置が大型化する。
新技術の新規性、独創性は省エネとCO2削減や装置の小型化に加え、光源の長寿命化が計れる。
これらに加え、すでに一昨年の開発で高圧水銀灯と同じレベルの紫外線出力を確保した。
新たな研究課題はこの出力を更に高め、より広範囲のアプリケーションを狙った開発を主眼とする。
研究内容は

① ハイパワーLED駆動回路の開発。
② 冷却放熱システムの見直し、開発。
③ 光学系との組み合わせ。
④ 機密保護としてブラックボックス化の取組。
⑤ UV樹脂メーカーとの協力関係の構築。

以上を今年のメインテーマとする。

この取組に興味がございましたら、ご一報いただければ嬉しく存じます。
喜んでお手伝いをさせていただきます。

2011年7月

ダイシング後のチップ拡張が"ゼロ"から自由に設定出来ます

チップ拡張装置/ウェハーエキスパンダーで、チップ間隔を広げた後のダイシングテープの固定は
装置メーカーにより異なった方法が採用されています。
輪ゴムやOリングで固定、固定ジグで固定、ホースバンドなどで固定するなど
非常に原始的な方法で行われています。

当社では強化樹脂で製作された二重リング(グリップリング)で固定します。
インナーリングは拡張の役割をし、アウターリングは拡張後のダイシングテープを
装置が持つグリップ機構で自動的にグリップされます。
このグリップリングの特長は薄い、軽い、安い、強いなど多くの特徴があります。

このたび自動グリップ方式のエキスパンダーが拡張ストローク "ゼロ" から設定できる
装置の開発に成功いたしました。
言いかえれば、グリップリングをはめ込むだけでダイシングストリートの僅かな拡張が出来ます。
本装置の拡張ストロークは0~15ミリの設定が出来ます。
従来装置の拡張ストロークは15~50ミリ設定となっています。

拡張用の用途は例えば、200ミリウェハーを203~215ミリにしたい、それ以上広がると困る、
と言った要求に答えることが出来ます。
弊社の従来モデルを含め他社の装置でこの機能が付加された単体の装置は無いと思われます。

本装置は海外の超大手半導体メーカーから依頼を受け開発したセミオート装置です。
このたび満足して使っていただける状態となりました。
お問合せは弊社営業部まで。

2011年6月

全自動マスククリーナーを受注いたしました

このたび、テクノビジョンは台湾の最大手半導体メーカーから
LEDの量産に特化した、全自動マスククリーナーを受注いたしました。
本装置は C to C 方式で1カセット20枚のマスクを全自動枚葉式で洗浄します。
装置概略は4槽式+ロード/アンロードエリアを有しています。

一槽目~レジスト洗浄に特化したケミカルを使用、パーカーコーポレーションOEMスペック。
二槽目~一次純水リンス。
三槽目~界面活性剤によるスクラブ洗浄と二次純水リンス、パーティクルを除去します。
四槽目~乾燥、Hot純水乾燥により更なるリンス効果を高めウォーターマーク無しの完全乾燥が
      できます。

このほか、クラス100クリーンエリアの確保や静電気対策、ケミカルオートフィル機能、
ケミカル交換機能、Hot純水の蒸気消去機能を有した高機能装置となっております。
これだけの機能を持った装置ですが、非常にコンパクトな装置に仕上がっています。
装置サイズ:1500(W) x 900(D) x 1800(H) Preliminary

すでに商談、お見積が出来る状況となっております。
また、装置見学のお話も承ります。お気軽にお問合せください。


2011年5月

450mm/18インチ用ウェーハーマウンター開発

ダイシングプロセス一連の工程でテープ貼り付け工程(ウェーハ/テープ/ダイシングフレームの貼り付け)があります。
450mmウェーハーの実用化と普及に先駆け、テクノビジョンでは本製品の開発に着手しております。


小口径から300mm/12インチウェーハーまでの技術とノウハウを基に、大口径ウェーハーマウンターに
要求される製品の完成を目指します。


試作機完成予定は6月を予定しておりますが、貼り付けデモや評価のご希望がございましたら
お気軽にご用命ください。
これらのことを通して装置の更なるブラシュアップを目指して行きたいと考えております。

2011年4月

UV硬化樹脂の開発のお手伝いをさせてください

発光ダイオード/LEDの普及が世界的に加速されつつあります。
照明用LED(可視光LED)、通信やセンサー用LED(IR-LED)、紫外線発光LED(UV-LED)
テクノビジョンはUV-LEDのアプリケーションに特化して産業界に貢献いたしております。
特に、LED-UV光源が持つ特長をを生かした硬化樹脂への応用には、今後急速な需要が
高まっていくと思われます。


弊社はそのような中で高出力LEDドライバーの開発により高圧水銀灯を凌ぐ
250mmW/cm2 365nm at 10mm work distance の面照射出力を達成しております。
この高出力と数ある特長を生かした光源技術で、UV硬化樹脂の開発のお手伝いを
させていただきたいと願っております。


UV硬化樹脂メーカー様との協力関係を構築出来ればと考えております。
是非、お声をかけて下さい。お待ちいたしております。(担当/速水(ハヤミ))

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