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新着情報

2011年3月

【心よりお見舞申し上げます】

東北地方太平洋沖地震で災害に合われた方に心よりお見舞申し上げます。
1日も早い復興を祈り、被災された皆様に元気な笑顔が戻ることを祈願しております。

2011年3月

UV硬化樹脂用 LED光源ーUV照射装置をカスタム仕様で開発します

UV硬化樹脂は印刷、塗装、接着、コーティングを始めとし、各分野へ広範囲な応用が普及しております。そのような中で、 従来の高圧水銀灯を使用したUV照射装置は数々の不都合が否めません。
その最大の理由は高温照射、消費電力が大きい、装置が大きい重いなど多くの問題を抱えています。

テクノビジョンでは、半導体製造におけるダイシング工程で使われるUVフィルム硬化装置を世に送り
だし、その後大変好評をいただいております。

この技術を多くの業界でお役立ていただきたく、カスタム仕様の照射装置を開発製造することとなりました。
LED光源UV照射装置には多くのメリットがございます。

①常温照射が出来る
②低消費電力
③装置がコンパクト
④上面照射/下面照射でも設計の自由度がある
⑤サイド照射が出来る
⑥両面照射が出来る
⑦選択照射/部分照射が出来る
⑧ワークサイズ/照射面積に制限を受けない自由設計が可能
⑨光源寿命が長い
⑩既開発装置は地球温暖化の貢献しCO2削減量は年間13.5トン、森林換算1975本相当になります。

高出力LED素子と弊社独自設計による高出力パワーサプライの開発により
高圧水銀灯と同じ性能/出力の達成に成功いたしました。
小型の評価用デモ機を準備しております。
いつでもご用命くださいますようお願い申しあげます。

2011年2月

【台湾ラボを開設いたしました】

テクノビジョンではこのたび、フォトマスクの洗浄、評価ができる台湾ラボ
株式会社パーカーコーポレーション様のご協力により、
台湾/新竹懸湖口郷工業団地に開設いたしました。
今後、台湾および中国でLEDや3D実装プロセス等の生産に加速が予測されることに
備えるもので、洗浄と評価をスピーディに対応し、お客様の要求にこたえるものです。
ラボの内容は本社と同様に、薬液洗浄とその評価にかかわる一連の周辺機器を取り揃え、
洗浄デモの実施は販売代理店の技術スタッフがこれに当たります。

2011年1月

【明けましておめでとうございます】

2011年のテクノビジョンはお客様と共に“うさぎ”のごとく飛躍して参りたいと願っております。
旧年中は大変お世話になりました。
新しい年も変わらぬご愛顧とご指導のほどよろしくお願い申し上げます。

すでにご案内の通り展示会、ネプコン・ジャパン2011/半導体パッケージング技術展
で皆様にお会い出来る事を楽しみにしております。
是非、弊社ブースにもお運びくださいますよう社員一同お待ち申し上げます。


展示会   :ネプコン ジャパン 2011 半導体パッケージング技術展
会場     :東京ビックサイト
開催日   :2011年1月19~21日
小間番号  :東18-12

<出展製品>
1. フルオートタイプUV硬化装置(新製品)業界初のLED光源採用の高出力タイプ
2. マニュアルタイプUV硬化装置(新製品)業界初のLED光源採用の高出力タイプ
3. ウェーハーエキスパンダ(新製品)テープ自動カッター内臓テーブルトップモデル
4. マスク洗浄装置(新製品)     ~アライナー用マスク洗浄、レジストとパーティクルを完全除去
5. UV硬化装置            ~高圧水銀灯仕様の従来機種
6. ウェーハエキスパンダ       ~ロングセラーの従来装置
7. ウェーハマウンタ          ~多機能マニュアルタイプ ウェーハ/テープ貼付装置
8. 自動ウェーハマウンタ       ~プリカットテープ、ロールタイプノーマルテープ共用装置
9. UVオゾン洗浄装置        ~ウェーハ、ガラス、基板表面の有機物汚染の除去
10. グリップリング           ~樹脂製ダブルリング、はめ合わせの方向性がない
                       世界で唯一のリング

2010年12月

【展示会情報~新製品4機種を含む多数の実機を出展いたします】

下記の通り展示会に出展いたしますのでご案内申しあげます。
出展装置に興味がございましたら是非ご一報をお願いします。招待状をお送りさせていただきます。
ご連絡は tv@techvision.co.jp または当HPのお問い合わせページよりご請求をお願いします。

展示会   :ネプコン ジャパン 2011 半導体パッケージング技術展
会場     :東京ビックサイト
開催日   :2011年1月19~21日
小間番号 :東 18-12

<出展製品>
1. フルオートタイプUV硬化装置(新製品 )業界初のLED光源採用の高出力タイプ
2. マニュアルタイプUV硬化装置(新製品 )業界初のLED光源採用の高出力タイプ
3. ウェーハーエキスパンダ(新製品 )    ~テープ自動カッター内臓テーブルトップモデル
4. マスク洗浄装置(新製品 )        ~ アライナー用マスク洗浄、レジストとパーティクルを
                            完全除去

5. UV硬化装置        ~ 高圧水銀灯仕様の従来機種。
6. ウェーハエキスパンダ  ~ ロングセラーの従来装置。
7. ウェーハマウンタ      ~ 多機能マニュアルタイプ ウェーハ/テープ貼付装置。
8. 自動ウェーハマウンタ   ~ プリカットテープ、ロールタイプノーマルテープ共用装置。
9. UVオゾン洗浄装置    ~ ウェーハ、ガラス、基板表面の有機物汚染の除去。
10. グリップリング       ~ 樹脂製ダブルリング、はめ合わせの方向性がない
                   世界で唯一のリング。

2010年11月

台湾における薬液供給体制が整いました

台湾LED市場の驚異的な活性化に伴い、アライナー用マスク洗浄装置の販売が
相当数見込まれます。
これに合わせて、現地での薬液供給体制が整いました。
レジスト除去専用の洗浄液を大手薬液会社 “株式会社パーカーコーポレーション” より
OEM(テクノビジョンブランド)供給されていますが、このたび台湾市場においても
パーカー台湾工場より直接お客様の元へ供給できる運びとなりました。
ケミカルの輸出、輸送については厳しい規制が設けられていますが、今回の供給体制により
台湾のお客様に対する安心安全と、併せて洗浄装置販売に弾みが期待されます。

2010年10月

14”フォトマスク洗浄装置の開発を急ぎます】

このたびテクノビジョンは12”ウェーハー用アライナーで使用する14”フォトマスク洗浄装置の
開発依頼を世界的大手半導体メーカーから正式に依頼されました。
すでに新製品として開発を終え販売活動をしているモデルTWC-300(9”マスク対応装置)
の基本的なコンセプトを引き継ぎ更に改良を加えた装置に仕上げていきます。
基本洗浄プロセスは、
レジスト除去工程→薬液リンス→パーティクル除去工程→リンス→乾燥→静電気除去
以上の工程を自動で処理いたします。
処理時間は10~12分、マスクのローディング/アンローディングはオペレーターが行う。
装置のフットプリントは1,200 X 1,050 と大変コンパクトにまとめました。
一般販売開始は2011年1月を予定しております。

2010年9月

次世代産業助成金の対象として承認されました

新製品開発ターゲットとしているLED光源による高出力UV照射装置
埼玉県から次世代産業参入企業として承認されました。
すでに製品化している LED光源UV硬化装置の更なるバージョンアップと
全自動装置はもとより 装置組み込み用光源ユニットの開発を目指します。
高圧水銀灯を光源とした従来装置より高出力化を図り
半導体業界だけでなく他分野での展開も視野に入れ
省エネルギー/ECO装置の開発を目指しています。

2010年8月

LED光源UV照射/硬化装置を受注いたしました

先に開発いたしましたLED光源UV硬化装置が実用機として市場で認められてまいりました。
照明用としてLEDは、すでに多く世に出て実用化されていますが、
紫外線領域の波長をもったUV照射装置を受注するのは半導体業界では当社が最初だと思われます。
ダイシング工程、BG工程において、UV硬化プロセスはタクトタイムが重要なファクターになります。
高圧水銀灯やメタハラ光源装置と比べて、ECOは言うまでもなく常温プロセス処理ができるなど
多くのメリットを兼ね備えた装置を是非ご検討ください。
評価用デモ機を調えていますので是非お試しください。
ご連絡をお待ちしております。


2010年7月

マスク洗浄の要素技術が確立いたしました~その2

アルカリ薬液は、石英ガラス他マスク材料ガラスに微小反応することは周知の事実です。
当社はマスク専用の洗浄薬液を2種類用意しておりますが、
各々についての影響度合いを徹底的に調べました。
分光光度計を用いて露光に必要な有効波長の減衰度合いを把握し、
実用上の問題の有無を基礎データーとして確立いたしました。
このような問題、疑問について何時でもお客様のご相談を承ります。
ご遠慮なくお申し付けください。

2010年6月

マスク洗浄の要素技術が確立いたしました~その1

コンタクト露光、プロキシミティ露光に使用するフォトマスクの洗浄で
当社の薬液が、マスクに与える影響(クロムパターン、石英、ソーダライムガラス)
がないことが立証されました。
ポジタイプレジスト、ネガタイプレジスト、レジスト付着状況、使用履歴、L/Sサイズ
さらには洗浄レシピーも含めた相談なども承っております。

2012年5月

【エキスパンダーにスマートなテープカット機構を搭載】

本業界で最も多くの販売実績を誇る、ウェーハーエキスパンダー/ウェーハー拡張装置に
スマートなテープの自動カット機構を搭載いたしました。
装置サイズは、従来装置と大きく変わらないテーブルトップタイプに仕上がり
使い勝手はさらに便利になり、カッター動作時の安全対策も万全です。
拡張後にスイッチ操作でテープをカットする自動運転モードと
拡張からテープカットまで全自動運転モードの選択ができます。

2010年4月

スピンコーターのカップ洗浄でお困りではないでしょうか?

弊社はフォトマスクに付着したレジスト除去の技術とノウハウを有しております。
また、レジスト除去用専用薬液も開発いたしました。
この水溶性のマイルドな薬液を利用して、スピンナーのカップにべっとりと付着したレジストの除去が、
完全に出来ることが確認されています。


スピンコーターの自動洗浄装置の開発と市場性を検討しています。
この件で困っておられる現場の方がいらっしゃいましたら是非お声をかけてください。
どんな装置を開発すれば良いか、生のご意見をお聞かせいただけないでしょうか?
いつでも出向いてまいりますので、よろしくお願い申しあげます。


テクノビジョン/新製品開発部/高比良・宮川

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