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新着情報

2010年3月

【新製品 TWC-200汎用洗浄装置の概要が決定いたしました】

<用途>
フォトマスク、ウェハー、各種基板の洗浄

<洗浄プロセス>
“薬液洗浄” → “薬液リンス” → “洗剤洗浄/スクラブ機能付き” → “リンス/乾燥”
の工程を自動運転

<特長>
① コンパクト卓上サイズ
② ワークサイズ 200 X 200 まで対応
③ 薬液加熱機能付き(オプション)
④ 超音波洗浄機能付き(オプション)
⑤ 多彩な洗浄プロセス/洗浄レシピー
⑥ 地球環境に優しい水溶性薬液を使用
⑦ 危険な熱硫酸や硫酸過水などから開放


詳細は資料をご覧ください。button02.gif

2012年2月

【新製品ニュースリリース】

マスク洗浄装置に続いて“モデルTWC-200 汎用洗浄装置”の開発を計画しています。
本装置のユーザーターゲットは“企業の研究開発部門・公的研究機関・大学研究室・小ロット生産”に適したデスクトップタイプの洗浄装置です。

装置概要として、安全性の高い薬液洗浄、水洗浄、スクラブ洗浄等を組み合わせた汎用性の高い装置となります。
用途はウェーハー、マスク、各種基板の洗浄に最適です。

より詳しい装置概要は次回のニュース配信で、情報を開示できる予定です。

2010年1月

【インターネプコン3R特設パビリオン情報】

明けましておめでとうございます。
2010年が皆様方にとって良い年でありますように。
そして、新しい年も旧年同様変わらぬご愛顧のほどよろしくお願い申し上げます。
                

インターネプコン・ジャパン2010では新製品展示をはじめ、次期開発製品の
ご案内が出来る予定です。
皆様のお越しを社員一同お待ち申し上げます。

又、ご訪問アポイントメントをご希望の方はご遠慮なくお申し付けください。
ご指定の日時に担当の営業とエンジニアが待機いたしております。
アポは、下記URLの出展者一覧からテクノビジョンのページに入っていただき
E-mail でご予約いただけます。
弊社出展小間番号 "東53-19"でお待ちいたしております。

展示会詳細につきましては下記URLをご参照ください。

■3R中小ベンチャー企業パビリオンHP
http://3-r.jp

■第39回インターネプコン・ジャパン公式HP
http://www.nepcon.jp/inj/


2009年12月

インターネプコン・ジャパン2010に出展いたします

新製品モデルTWC-300 マスク洗浄装置をインターネプコン・ジャパンに出展いたします。
これは経済産業省が支援している3R特設パビリオンで展示。
弊社のマスク洗浄装置は3R(Reduce,Reuse,Recycle)の理念に合致しているという事で承認されました。


* 露光工程のランニングコスト/マスク経費を毎月一千万前後節減できる(Reduce)
* フォトマスクを消耗品扱いにしないで半永久的に使用できる(Reuse,Recycle)


展示場所 : 東京ビッグサイト "東4ホール3Rパビリオン" です。
開催期間 : 2010年1月20日(水)~22日(金)


皆様のお越しを社員一同お待ち申しあげます。

2009年11月

【ケミカルの供給を開始致しました】

マスク洗浄装置で使用する、レジスト除去とパーティクル除去専用ケミカルの開発が完了いたしました。
また、本ケミカルは、テクノビジョンブランドでお客様に供給できるOEM契約が成立し、ケミカルだけの
供給体制も整いました。もちろん、本ケミカルは洗浄ノウハウを含んだレシピと一緒に供給いたします。

2009年10月

【マスク洗浄はテクノビジョンにお任せください!】

フォトマスク洗浄装置(TWCシリーズ)~新製品

●レジストとパーティクルを完全除去
●もうマスクは消耗品ではありません
●マスクの永久使用で露光工程のランニングコストを劇的に削減
●現場では、マスク洗浄で困っていませんか?
●上司と経営陣の助を求めていませんか?
●もう危険な熱硫酸、硫酸過水、有機溶剤などとさようなら
●高価なリムーバーや現像液ともさようなら
●地球環境に優しい安全な水溶性薬液を使用
●マスク代10,000,000円前後を毎月削減 *

* 1製品で5種類のマスク、1日で100ウェーハ露光毎に
マスクを新品に交換、マスク単価を50,000~80,000円と仮定

カタログをご覧下さい。button02.gif

2009年10月

露光プロセスに強力な味方/高機能マスク洗浄装置が登場!

8月の最新情報でお知らせした二槽式洗浄装置と同じ性能を有した新製品で、小型・省スペースの
一槽式マスク洗浄装置 モデルTWC-300 を受注開始いたしました。
本装置は露光時にマスクに付着したレジストとパーティクルを除去し、露光工程の製品歩留まり向上に
寄与します。 これまで除去が困難とされていた露光時のレジスト昇華物(コンタクト時の付着レジストとは別)や、 使用履歴が明らかではないハードに汚染されたマスクの洗浄にも適した薬液を使用しています。薬液は専門メーカーと共同開発された本装置専用薬液で地球環境の優しい水溶性のマイルドな製品です。

2009年9月

【ステルスダイシング前後の工程で使用されるウェーハー貼付、ウェーハー割断/エキスパンダー、UV硬化装置がMEMS開発オープンラボ/メムスコアーに常設されています】

MEMS開発オープンラボはMEMSデバイスの設計、試作、開発、製品化の一連の業務をどなたにでも提供する場所で、必要な設計ツールをはじめ試作開発装置も揃っています。テクノビジョンでは、組立プロセスで ダイシング、特にMEMSデバイスに大敵の水を使わないステルスダイシング前後の工程で必要な装置、ウェハーマウンター、ウェハー割断装置/エキスパンダー、UV硬化装置をご利用いただいております。
又、ご希望に応じて、弊社の技術スタッフがお手伝いさせていただきます。

2009年8月

【高性能、多機能フォトマスク洗浄装置を受注開始】

従来の純水ベースのマスク洗浄装置に薬液洗浄機能を加え、マスクに付着したレジスト除去が容易に
できる二槽式洗浄装置を受注開始いたしました。薬液槽はポジ、ネガ両レジストに対応できるように、
二つの薬液浸漬槽が用意され、更に超音波洗浄機能や薬液過熱機構が備わっています。
装置は縦型設計でクリーンルームの設置場所を最小限にできます。

2009年7月

LED光源UV硬化装置:ランニングコストは従来装置の1/13、年間CO2削減量13.5t 地球温暖化防止に貢献いたします】

新製品モデル LED-408 UV硬化装置は、ダイシング工程、BG工程で使用されるUV硬化型テープの硬化装置です。メタルハライド光源や高圧水銀ランプなどの従来装置に比べて照射性能をはじめ、
技術的優位性やランニングコストに代表される経済的優位性をいかんなく発揮します。 評価用デモ機を常設してお客様のご利用をお待ちしております。
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