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新着情報

2010年6月

マスク洗浄の要素技術が確立いたしました~その1

コンタクト露光、プロキシミティ露光に使用するフォトマスクの洗浄で
当社の薬液が、マスクに与える影響(クロムパターン、石英、ソーダライムガラス)
がないことが立証されました。
ポジタイプレジスト、ネガタイプレジスト、レジスト付着状況、使用履歴、L/Sサイズ
さらには洗浄レシピーも含めた相談なども承っております。