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簡易型マスク洗浄装置
概要

簡易型マスク洗浄装置は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置です。

簡易型マスク洗浄装置は、2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行います。

1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。

簡易型マスク洗浄装置TWC-302
モデル:TWC-302
パーティクル除去

フォトマスクに付着したパーティクルは、そのほとんどが露光時に光を遮断しパターンの一部としてワークに転写されて不良品発生の原因となります。このようなトラブルを未然に防ぐために、「マスクの洗浄・管理は露光プロセスの重要な一環」という思想に基づき開発されました。

レジスト除去(オプションによる薬液使用時)

マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。汚染の度合いに適した洗浄剤を使用することで時間、労力、経費の節約をはかり、洗浄効率の向上が実現できます。


簡易型マスク洗浄装置は、マスクサイズ14インチまで対応したTWC-302
およびマスクサイズ7インチ対応の「TWC-202」(開発予定)があります。

特長
  • マスクに付着したパーティクルを簡単に除去

  • マスクに付着したレジストを簡単に除去 (オプションの薬液使用時)

  • マスクは消耗品から永久使用へ

用途

■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適

FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。

・マスク洗浄装置の全自動機「TWC-200A」については >>こちら


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