テクノビジョンTOP > 製品情報 > 全自動マスク洗浄装置 TWC-200A
全自動マスク洗浄装置 TWC-200A
概要

全自動マスク洗浄装置 『TWC-200A』 は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する 7 インチマスク対応のカセット to カセットの全自動マスク洗浄装置です。


乾燥は従来のエアーナイフ乾燥ではなく、ホット純水乾燥を採用し、水飛びによる調整の 手間を無くした調整不要の設計になっています。

対応するマスクサイズは、最大7インチまで。20枚セット可能な専用カセットを装置に セットした後は、「スタート」ボタンを押すだけ!

薬液補充は、ご購入いただく”薬液(薬液タンク)の状態での入れ替え”となり、 キャップの付け替え作業になります。
薬液は4種類が用意され、ニーズに合ったものを選択できます。



電源
200V    3相
寸法
1760(W)×900(D)×2050(H)
重量
約550Kg
TWC-200A


      全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

TWC-200A
特長
マスク洗浄装置
  • 100,000,000円前後のマスク代を毎年削減
  • マスクに付着したレジストを簡単に除去
  • マスクに付着したパーティクルを簡単に除去
  • マスクは消耗品から永久使用へ
  • 洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発
  • 熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放
  • 高価なリムーバーや現像液なども不要

※例は大手メーカーの使用ケース:1か月で約3,000枚のマスクを使用。
  マスク代を3,000~5,000円と想定し計算

用途

■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適

FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。

洗浄/リンス

洗浄から乾燥に至るまでの洗浄フロー概略




・製品価格やご購入方法については、お手数ですがフォームよりお問合せ下さい。

テクノビジョン | 半導体製造装置、洗浄関連装置、後工程関連装置

Copyright © 2000-2013 Technovision, Inc. All Rights Reserved.