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新型マスク洗浄装置 TWC-300
概要

マスク洗浄装置 『TWC-300』 は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する洗浄装置です。



レジスト除去

マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分けられます。モデルTWCー300では、汚染の度合いに適した洗浄剤を使用することで時間、労力、経費の節約をはかり、洗浄効率の向上を実現しました。



パーティクル除去

フォトマスクに付着したパーティクルは、そのほとんどが露光時に光を遮断しパターンの一部としてワークに転写されて不良品発生の原因となります。このようなトラブルを未然に防ぐために、「マスクの洗浄・管理は露光プロセスの重要な一環」という思想に基づきTWC-300を開発しました。
面倒なマスク洗浄を人手に頼らずルーチン化することで、露光の品質向上と製品の安定化・歩留まり向上に貢献しています。

特長
マスク洗浄装置
  • 100,000,000円前後のマスク代を毎年削減
  • マスクに付着したレジストを簡単に除去
  • マスクに付着したパーティクルを簡単に除去
  • マスクは消耗品から永久使用へ
  • 洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発
  • 熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放
  • 高価なリムーバーや現像液なども不要
  • 設置場所を取らない縦型コンパクト設計

※例は大手メーカーの使用ケース:1か月で約3,000枚のマスクを使用。
  マスク代を3,000~5,000円と想定し計算

用途

■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適

FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。

■ユーティリティ

純水
5-6リットル/分  0.1-0.15MPa  接続~Rc1/2
乾燥エアー
クリーンドライエアー/CDA  600-800リットル/分
0.3-0.4MPa  接続~Rc3/4
駆動エアー
0.4-0.5MPa  接続~φ6  クイック継手
排水
40A(外径48mm PVC管)
排気
一般排気  0.15-0.20Pa  接続~外径100mm
電源
200V  15A  3相
寸法
1100(W)×1100(D)×1850(+150  HEPAユニット)
重量
約400kg
洗浄/リンス


・マスク洗浄装置の全自動機「TWC-200A」については >>こちら
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