半導体製造プロセスの前工程において、使用する製品のご紹介
FOUP洗浄装置
300mm(12")ウェーハー容器FOUPの精密洗浄に特化して開発された装置
SMIF&カセット洗浄装置
R&D、小ロット生産対応機種で200mm(8")用カセットまで洗浄できます。
フォトマスク洗浄装置
フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置。
PDP用ラージサイズから数インチサイズのスモールサイズまで対応。
マスク洗浄装置 TWC-300
露光工程（コンタクト、プロキミティ）の経費を劇的に削減。
紫外線オゾン(UVオゾン)洗浄装置
ワーク表面の有機物汚染除去、表面改質に有効に作用。精密洗浄、ファイナル洗浄、ピンホールレスプロセスに最適。
スーパークリーンヒーター(QHシリーズ)
超純水加熱用。接液部に高純度石英及び、PTFEを採用したクリーンヒーター。
スーパークリーンヒーター(SHシリーズ)
不活性ガス・クリーンドライエアー加熱用。流体通路はオールステンレス電解研磨処理を採用したクリーンヒーター。
半導体製造プロセスの後工程において、使用する製品のご紹介
ウェハー/フィルム/ダイシングフレームを気泡なしで瞬時に貼付け
チップ間隔を任意の幅に拡張します
UV硬化型ダイシングフィルム用のUV照射装置
フィルム、シートをピンと貼ったままの状態でグリップします
