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洗浄装置一覧

半導体製造プロセスの前工程において使用する洗浄装置群のご紹介

カセット/キャリア洗浄装置

カセット/キャリア洗浄装置

ウェハーカセット、キャリア等の精密洗浄を行う、コンパクトな洗浄装置

フォトマスク洗浄装置

フォトマスク洗浄装置

フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置。 数インチレベルからPDP用ラージサイズまで対応。

簡易型マスク洗浄装置

簡易型マスク洗浄装置

スクラブ洗浄&リンスとHot純水乾燥の2槽式簡易型マスク洗浄装置。14インチマスク対応(オプションで薬液洗浄可)

全自動マスク洗浄装置 TWC-200A

全自動マスク洗浄装置 TWC-200A

レジストとパーティクルを同時に除去する専用薬液対応のCassette to Cassette全自動マスク洗浄装置

簡易洗浄ユニット NEW!

簡易洗浄ユニット

最大7インチマスクサイズまで対応できる簡易洗浄ユニット

UV(紫外線)オゾン洗浄装置

紫外線オゾン洗浄装置/UVオゾン洗浄装置

UV照射によりワーク表面の有機物汚染除去、表面改質を実施。精密洗浄、ファイナル洗浄等に最適。

超純水用ヒーター(QHシリーズ)

スーパークリーンヒーター(QHシリーズ)

接液部に高純度石英および、PTFE(テフロン)を採用した超純水加熱用ヒーター

ドライエアー用ヒーター(SHシリーズ)

スーパークリーンヒーター(SHシリーズ)

不活性ガス・クリーンドライエアー加熱用ヒーター。流体通路はオールステンレス電解研磨処理を採用

後工程組立一覧

半導体製造プロセスの後工程において使用する組立装置群のご紹介

■ダイシング工程を中心としたプロセスの一例概略

(※UV硬化の工程が前後するケースもございます)

ダイシング工程

ウェハーマウンター/テープ貼付け装置

ウェハー/テープ/ダイシングフレームを気泡なしで素早く貼付ける装置

ウェハーエキスパンダー/ウェーハー拡張装置

ダイシング後、チップ間隔を任意の幅で均一に拡張し、チップハンドリングを容易にします。
新モデル追加) NEW!

グリップリング

テープやシートをピンと張った(拡張した)ままの状態で保持(グリップ)するダブルリングです

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