マスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化に大きく貢献致しております｡
スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した装置、４機種を用意致しました｡
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特長
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| 1 |
ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う｡
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特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う｡
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縦型処理の為、ワークにストレスがかからない｡
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少量多品種、Ｒ＆Ｄ用途の基板洗浄にも最適｡
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各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。また、ワーク接触部分は､樹脂にて対応。
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フォトマスク： |
半導体用、液晶用、有機ＥＬ用、カラーフィルター用、
薄膜デバイス用、ＩＣパッケージ用、ＰＷＢ用、ＰＣＢ用、ＦＰＣ用
その他、板状基板等洗浄可 |
■各オプション
界面活性剤供給ユニット、ＨＥＰＡ／ＵＬＰＡユニット、イオナイザー、
ホットエアーナイフ、純水加熱ユニット |
| モデル TW-２００ |
| 対応サイズ |
300mm×300mmまで
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| 装置寸法 |
700mm（幅）×900mm（奥行）×1570mm（高さ）
作業部高さ1040mm
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| 作業高さ |
1040mm
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| 重量 |
250Kg
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| モデル TW-３００ |
| 対応サイズ |
360mm×460mmまで
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| 装置寸法 |
1070mm（幅）×700mm（奥行）×1815mm（高さ）
作業部高さ1200mm
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| 作業高さ |
1200mm
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| 重量 |
280Kg
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| モデル TW-７００ |
| 対応サイズ |
620mm×720mmまで
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| 装置寸法 |
1810mm（幅）×880mm（奥行）×1590mm（高さ）
作業部高さ1240mm
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| 作業高さ |
1240mm
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| 重量 |
580Kg
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| モデル TW-１０００ |
| 対応サイズ |
1300mm×1700mmまで
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| 装置寸法 |
17200mm（幅）×1200mm（奥行）×2700mm（高さ）
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※マスクサイズは適宜対応致しますので
ご相談下さい｡
※マスク受渡部も同様にカスタムスペックにて
対応しますのでご相談下さい｡
