テクノビジョンTOP > 製品情報 > フォトマスク洗浄装置
フォトマスク洗浄装置
フォトマスク洗浄装置概要

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件!


半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、 表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、 歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TW-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています。

特長
  
特長
1
ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
2
スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
3
縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
4
少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。
5
各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。
また、ワーク接触部分は、樹脂にて対応。
専用ワークホルダー フリーサイズ用ワークホルダー 個別対応専用ワークホルダー

専用ワークホルダー

フリーサイズ用ワークホルダー

個別対応専用ワークホルダー

用途

フォトマスク:

半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、
薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用
その他、板状基板等洗浄可

 ■各オプション

・界面活性剤供給ユニット
・HEPA/ULPAユニット
・イオナイザー、
・ホットエアーナイフ
・純水加熱ユニット

縦型コンパクトタイプ
モデル TW-200
モデル TWE-200
マスクサイズ
300mm×300mmまで
装置寸法
980mm(幅)×720mm(奥行)
×1,760mm(高さ)
重量
250Kg
モデル TW-300
モデル TW-300
マスクサイズ
360mm×460mmまで
装置寸法
1,070mm(幅)×700mm(奥行)
×1,815mm(高さ)
作業高さ
1,200mm
重量
280Kg
モデル TW-700
モデル TW-700
マスクサイズ
620mm×720mmまで
装置寸法
1,810mm(幅)×880mm(奥行)
×1,590mm(高さ)
作業高さ
1,240mm
重量
580Kg
PDP・大判用フォトマスク対応装置
モデル TW-1000
モデル TW-1000
マスクサイズ
1,300mm×1,700mmまで
装置寸法
17,200mm(幅)×1,200mm(奥行)×2,700mm(高さ)

※マスクサイズは適宜対応致しますので
    ご相談下さい。

※マスク受渡部も同様にカスタムスペックにて
    対応しますのでご相談下さい。

※簡易型マスク洗浄装置については >>こちら

テクノビジョン | 半導体製造装置、洗浄関連装置、後工程関連装置

Copyright © 2000-2013 Technovision, Inc. All Rights Reserved.