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UV照射装置

紫外線オゾン洗浄装置は、ワーク表面の有機物汚染の除去及び、 表面改質を行ないます。
複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置です。 ファイナル洗浄として威力を発揮します。


  
特長
1
高密度UVグリッドランプを使用。
2
ワーク面に対して照射が均一。
3
省スペース、コンパクト設計。
4
シンプルなユーティリティー。
5
両面洗浄、片面洗浄の対応が可能。
6
簡単操作、セーフティー機能内蔵。
UV照射装置

■ぬれ性変化

■接触角の変化

ぬれ性変化 接触角の変化
処理条件
照射時間:5分/照射距離:10mm
照射装置:UV-208/照射サンプル:Siウェーハー
処理条件
照射時間:5分/照射距離:10mm
照射装置:UV-208/照射サンプル:Siウェーハー
  
用途
1
ウェーハー、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄
2
樹脂部品の表面改質
3
接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上
4
ワーク表面のヌレ性改善
UV照射装置

高密度UVグリッドランプ、パワーサプライのみのご提供も可能です。