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オゾン洗浄装置
UVオゾン洗浄装置

UV(紫外線)オゾン洗浄装置とは、特定波長の紫外線を照射しオゾン(O3)を生成、その生成したオゾンを利用し有機化合物を酸化・分解させることで、 ワーク表面の有機物汚染の除去表面改質を行うUVオゾン洗浄装置です。

紫外線(UV)オゾン洗浄装置 UV-208、UV-312は、UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用しています。

高密度グリッド形状のランプを採用していることで、ワーク全エリアを均一に照射することができます。(評価機無償貸出中)


モデル:UV-208

■UVオゾン洗浄原理


オゾン洗浄原理
オゾン洗浄原理

UVオゾン洗浄 イメージ


  

UVオゾン洗浄原理

オゾン生成

大気中の酸素(O2)は波長184.9nm紫外線を吸収して、オゾン(O3)を生成

オゾン分解

生成されたオゾン(O3)はさらに波長253.7nm紫外線を吸収して、O2と活性酸素(O*)を発生

有機物分解
(洗浄、表面改質)

非常に不安定な活性酸素(O*)が有機化合物と結びついてH2O、CO2、NOxなどの気体に酸化分解(有機化合物と結びつくことで、洗浄・表面改質されます)


紫外線オゾン洗浄装置特長
  
特長
1
高密度UVグリッドランプを使用
2
ワーク面に対して照射が均一
3
省スペース、コンパクト設計
4
シンプルなユーティリティー
5
両面洗浄、片面洗浄の対応が可能
6
容易な操作、セーフティー機能内蔵
UVランプ

[ 写真:高密度UVグリッドランプ ]


紫外線オゾン洗浄装置効果

UV(紫外線)照射によるオゾン洗浄表面改質により、表面の汚れ(疎水性のもの)が 除去・洗浄され
濡れ性が(親水性へ)変化します(水滴が広がります)。

濡れ性の変化は、固体の表面で液体が接触している接触角θの変化(小さくなる)で 確認できます。
濡れ性の変化は、密着性の向上にもつながります。


■水滴の広がりによる濡れ性、接触角の変化


■ぬれ性変化

■接触角の変化

ぬれ性変化 接触角の変化
処理条件
照射時間:5分/照射距離:10mm
照射装置:UV-208/照射サンプル:Siウェーハー
処理条件
照射時間:5分/照射距離:10mm
照射装置:UV-208/照射サンプル:Siウェーハー
紫外線オゾン洗浄装置用途

UV(紫外線)オゾン洗浄装置は、下記の各種用途に手軽に利用することができます。

  
用途
1
半導体ウェハー、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄
2
樹脂部品の表面改質
3
接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上
4
ワーク表面のヌレ性改善

■UVオゾン洗浄装置

   UV-208 UV-312
照射エリア 206mm x 206mm 308mm x 308mm
電源 AC 100V 10A 50 or 60Hz(他電圧可)
サイズ 385mm(W) x 480mm(D) x 270mm(H) 505mm(W) x 616mm(D) x 320mm(H)
重量 28kg 41kg
装置 UV-208 UV-208

※高密度UVグリッドランプ、パワーサプライのみのご提供も可能です。


UVオゾン洗浄装置の価格やご購入方法、詳細につきましては、下記よりご連絡下さい。

・評価用デモ機の無償貸出も行っています。

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