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カセット・キャリア洗浄装置
カセット・キャリア洗浄装置概要

モデル『TCC-803 カセット洗浄装置』は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした洗浄装置
少量多品種生産用途に適したコンパクトな装置です。


多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、ますます高度化する環境の中で求められる 歩留り向上、これらの問題をクリアするソリューションの一つにコンタミネーションコントロール(製品への不純物付着がないよう管理すること)が最重要課題として位置付けられています。

テクノビジョンが提供するカセット洗浄装置は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されているキャリア・クリーナーです。

キャリア洗浄装置プロセス

洗浄では、「洗浄」→「リンス」→「乾燥1」→「乾燥2」・「静電気除去」のプロセスを自動運転します。

プロセス
洗浄プロセス
内容
1:WASH(洗浄)
複雑な形状のカセット、ボックス等を精密洗浄
2:RINSE(リンス)
洗浄時に界面活性剤を使った場合のリンス工程
3:DRY-1(乾燥-1)
エアーナイフによる水切り工程
4:DRY-2(乾燥-2)
Low Flow ホットエアーナイフによるファイナルドライ
5:ESD(静電気除去)
静電気を除去し、塵埃の付着を防止
キャリア洗浄装置特長

複雑な形状のワーク(ウェハ搬送容器)を考慮し、各種回転やスプレー洗浄等数多くの洗浄ノウハウを凝縮し、製品化しています。

■主な特長

特長
内容
精密洗浄
ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々まで精密洗浄
強力洗浄
ウェハー収納ミゾ部全面に対し直角スプレーを実施
ホット純水
クリーンヒーター内蔵で、ホット純水による洗浄
完全乾燥
99%の水切り(水分除去)後、乾燥チャンバーへ移動
小フットプリント
縦型設計で、省スペース化を実現

■処理数

ウェハ容器
処理数
SMIF POD
32個/シフト(8時間)
200mmカセット
106 カセット/シフト(8時間)
150mmカセット
160カセット/シフト(8時間)

※200mm(8")カセットまで対応

SMIF カセット洗浄装置
カセット洗浄装置 TCC-803

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