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カセット洗浄装置
概要

多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、益々高度化する環境の中で求められる更なる 歩留り向上、これらの問題をクリアーするソリューションの一つにコンタミネーションコントロールが最重要課題として 位置付けられています。
モデルTCC-803カセット洗浄装置は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されています。

ユーザーターゲット

ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置です。

プロセス

■処理数

  
処理数
SMIF POD
32個/シフト(8時間)
200mmカセット
106 カセット/シフト(8時間)
150mmカセット
160カセット/シフト(8時間)

※200mm(8")カセットまで対応

SMIF&カセット洗浄装置