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全自動マスク洗浄装置 TWC-200A
概要

“TWC-200A”是一个完全自动掩膜清洗装置于一体,一举完全去除1μm以上的颗粒和抵制残留坚持掩膜。

全自动化与专用药液相对应的手册类型的「TWC-300」掩膜清洗装置(枚叶式), 生产率的提高被安排,盒to 盒的全自动掩膜清洗装置


干燥不是以前的风刀干燥,采用温纯水干燥, 变成丢失水飞由于的调整的 工夫的调整不用的设计

对应的掩膜尺寸,到最大7英寸。 装置可以20件套的专用盒设定之后,只「开始」按按钮!

补充化学品,更换水箱中的化学品,更换盖子,将工作。
药液能选择4种类被准备,需要相合东西。



电源
200V    3相
尺寸
1760(W)×900(D)×2050(H)
重量
约550Kg
TWC-200A


      全自动掩膜清洗装置「TWC-200A」

TWC-200A
特長
マスク洗浄装置
  • 每年削减100,000,000日元前后的掩膜费
  • 简单地消除掩膜粘贴的抵制
  • 简单地消除掩膜粘贴的粒子
  • 掩膜从消耗品向永久使用
  • 环境和善的开发温和的水溶性药液
  • 热硫酸和硫酸过水从等的危险解放
  • 高价的去污剂和冲洗液等也不用

※例子大制造厂的使用情况∶1个月使用约3,000张(件)掩膜。
  估计掩膜费3,000~5,000日元计算

用途

■向设计规则L/S(线和空间)1μm以上的光掩膜的冲洗最适合

FPD(平板显示器), MEMS设, 精细模式PCB/FPC/TAB, 化合物半导体,薄膜电子零件等。