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光掩膜清洗装置

光掩膜洁净化是提高成品率的必须条件。
敝社以长期积累的清洗技术及干燥技术,为光掩膜的高度洁净化作出了极大贡献。

光掩膜清洗装置备有四个机种,可满足从小尺寸到大尺寸光掩膜的广范围需求。

特长
  
特长
1
1台装置就能迅速对工件进行擦洗、冲洗、干燥。
2
使用特殊清洗刷,不会对工件留下擦痕,能进行均匀的精密清洗。
3
由于是立式处理,不会对工件施加应力。
4
最适用于少量多品种、研究开发用途的基板清洗。
5
备有各种尺寸的专用工件夹盘及不分尺寸的工件夹盘。而且,与工件接触的部分使用树脂。
专用工件夹盘 不分尺寸的工件夹盘 个别专用工件夹盘

专用工件夹盘

不分尺寸的工件夹盘

个别专用工件夹盘

用途

光掩膜:

半导体用、液晶用、有机EL用、滤色器用、薄膜器件用、
IC包装用、PWB用、PCB用、FPC用、其他、
可用于板状基板等清洗

■各种选购件

表面活性剂供给单元、HEPA/ULPA单元、除电器
热气刀、纯水加热单元

立式小型
机型 光掩膜清洗装置 TW-200
机型 TWE-200
对应尺寸
最大300mm×300mm
装置尺寸
980mm(宽度)×720mm(进深)×1760mm(高度)
重量
250Kg
光掩膜清洗装置 TW-300
机型 TW-300
对应尺寸
最大360mm×460mm
装置尺寸
1070mm(宽度)×700mm(进深)×1815mm(高度)
作业部高度
1200mm
重量
280Kg
机型 光掩膜清洗装置 TW-700
机型 TW-700
对应尺寸
最大620mm×720mm
装置尺寸
1810mm(宽度)×880mm(进深)×1590mm(高度)
作业部高度
1240mm
重量
580Kg
PDP/大号用光掩膜对应装置
モデル TW-1000
机型 TW-1000
对应尺寸
最大1300mm×1700mm
装置尺寸
17200mm(宽度)×1200mm(进深)×2700mm(高度)

※可以根据光掩膜的尺寸进行相应的对应调整,欢迎垂询。

※光掩膜交接部也同样可以按客户规格进行对应调整,欢迎垂询。