光掩膜洁净化是提高成品率的必须条件。
敝社以长期积累的清洗技术及干燥技术，为光掩膜的高度洁净化作出了极大贡献。
光掩膜清洗装置备有四个机种，可满足从小尺寸到大尺寸光掩膜的广范围需求。
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特长
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| 1 |
1台装置就能迅速对工件进行擦洗、冲洗、干燥。
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使用特殊清洗刷，不会对工件留下擦痕，能进行均匀的精密清洗。
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由于是立式处理，不会对工件施加应力。
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最适用于少量多品种、研究开发用途的基板清洗。
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备有各种尺寸的专用工件夹盘及不分尺寸的工件夹盘。而且，与工件接触的部分使用树脂。
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光掩膜： |
半导体用、液晶用、有机EL用、滤色器用、薄膜器件用、
IC包装用、PWB用、PCB用、FPC用、其他、
可用于板状基板等清洗 |
■各种选购件
表面活性剂供给单元、HEPA/ULPA单元、除电器
热气刀、纯水加热单元
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| 机型 TW-200 |
| 对应尺寸 |
最大300mm×300mm
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| 装置尺寸 |
700mm700mm(宽度)×900mm(进深)×1570mm(高度)
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| 作业部高度 |
1040mm
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| 重量 |
250Kg
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| 机型 TW-300 |
| 对应尺寸 |
最大360mm×460mm
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| 装置尺寸 |
1070mm(宽度)×700mm(进深)×1815mm(高度)
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| 作业部高度 |
1200mm
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| 重量 |
280Kg
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| 机型 TW-700 |
| 对应尺寸 |
最大620mm×720mm
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| 装置尺寸 |
1810mm(宽度)×880mm(进深)×1590mm(高度)
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| 作业部高度 |
1240mm
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| 重量 |
580Kg
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| 机型 TW-１０００ |
| 对应尺寸 |
最大1300mm×1700mm
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| 装置尺寸 |
17200mm(宽度)×1200mm(进深)×2700mm(高度)
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※可以根据光掩膜的尺寸进行相应的对应调整，欢迎垂询。
※光掩膜交接部也同样可以按客户规格进行对应调整，欢迎垂询。
