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紫外线臭氧(UV臭氧)清洗装置

紫外线臭氧清洗装置将除去工件表面的有机物污染,并进行表面改质。 是不需要复杂结构的,简单的干洗装置。作为末道清洗发挥其威力。


  
特长
1
使用高密度UV格栅灯。
2
对工件面的照射均匀。
3
节省空间、小型化设计。
4
公用工程简单。
5
可以进行双面清洗、单面清洗。
6
操作简单,内装安全功能。
紫外线臭氧

■湿润性变化

■接触角的变化

湿润性变化 接触角的变化
处理条件
照射时间:5分钟/照射距离:10mm
照射装置:UV-208/照射样品:Si晶片
处理条件
照射时间:5分钟/照射距离:10mm
照射装置:UV-208/照射样品:Si晶片
  
用途
1
晶片、光掩膜、玻璃基板、光学零部件的清洗
2
树脂零部件的表面改质
3
提高粘结、涂饰、印刷、蒸镀、焊接等的密着性。
4
改善工件表面的湿润性。
紫外线臭氧清洗装置

也可以仅提供高密度UV格栅灯、电源。